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說一說三價鉻鍍鉻優(yōu)缺點
來源:m.gyfysw.cn 發(fā)布時間:2021年01月09日
三價鉻鍍鉻優(yōu)缺點
三價鉻電鍍具有下列優(yōu)點:

(1)毒性低,污染小。鍍液清洗水中不含六價鉻,廢水稍加處理即可排放,且電鍍過程不產生有毒的鉻酸霧;

鍍三價鉻

(2)鍍液濃度低,只有六價鉻鍍鉻的1/10,分散能力和覆蓋能力好,成品率提高;
(3)電鍍過程不受電流中斷的影響,無需退鍍;
(4)陰極電流效率可達21~25%,高于六價鉻電鍍,提高了生產率。
同時,三價鉻電鍍也存在下列問題:
(1)鍍層厚度較難提高,只能用于裝飾性鍍鉻,而不能鍍厚鉻,功能性鍍鉻困難;
(2)鍍液組分復雜,穩(wěn)定性不好;對雜質的容忍性很低,維護較困難;
(3)陽極的選擇和使用有不足處,耐腐蝕性,硬度,耐沖擊性還有待提高;
(4)裝飾性鍍鉻時,外觀色澤不盡人意。
(5)一次設備投入較大,成本較高。
其中,鍍層增厚問題是三價鉻電鍍工藝發(fā)展的關鍵和難題,影響三價鉻鍍鉻層增厚的原因有如下三種觀點:
a.PH值影響:陰極表面隨著鉻沉積的進行,PH值迅速升高(PH>8.2),導致鉻的氫氧化物生成,并夾雜于鍍層內,影響了鉻鍍層結晶的正常進行,造成鍍層增厚困難。
b.Cr3+存在形態(tài)的影響:電鍍過程中陰極擴散層內PH值升高(PH≥4)后,水合Cr3+會發(fā)生羥橋化反應,Cr3+的存在起催化作用,使羥橋化反應迅速進行,從而了鉻沉淀的進一步反應。
c.陰極反應過程的影響
隨電鍍時間的延長,陰極表面附近PH值和溫度不斷升高,造成陰極析氫加劇,金屬沉積的電流效率降低,且陰極附近OH-與Cr3+發(fā)生羥橋化反應,了鉻沉積。
對于鉻消耗的補充是通過自動添加鉻的氫氧化物,同時依據(jù)不斷的化學分析以及電鍍液負荷(Ah/L)進行添加。
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